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第270章 改进光刻机部件

看来自己这段时间得在这边多待一段时间了!

以刘铭的智商,只要按部就班的学会了65nm的技术,很快就能自主设计出55nm的光刻机,甚至是45/40nm的光刻机。

这段时间,他对于那些基础知识的光刻机已经有了足够的理解。

原本以为王蓉交给他的90nm光刻机技术资料只是入门级别,没想到是接近天花板的级别。

行吧!

刚刚好这段时间他在90纳米光刻机的技术上有了很多想法,或许这段时间可以试试,能不能直接开发出65nm的光刻机。

对于65的nm的光刻机,刘铭还是有不少的感悟的。

起码他在资料中,就发现了很多可以优化的地方,甚至有部分刘铭能感觉到不合理。

好在每次回家,刘铭都会带上2身备用的衣服,也不回家了,刘铭直接在后勤领取了一套研究人员的专用的制式白色大褂。

仅仅花费了

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