刘铭准备彻底将光刻机研究到55nm，达到国内顶尖水准才会离开。

一直靠自己动手终究不是长久之计，最好的办法还是得到高端技术，直接培养一些可靠的科研人员，让他们学习，让他们做出突破。

当然，最重要的是，他目前也仅有55nm左右的理论知识，再精细下去，他只有一点点关羽28nm的猜想，想要研究出来，可就要耗费不少时间，缓慢积累。

刘铭自然是不可能在这里浪费太多的时间。

他最多写出一部分自己对于进一步28nm精度的设想方向，而后不再管理。

这一研究就是3天的时间，大炎电子科技的进度几乎是以肉眼可见的速度进步。

直接从65nm都搞不明白到如今刘铭新一步的修改计划，极有可能达到55nm的精度。

将东西写完，刘铭也懒得继续待在这里。

这里不能去大炎，也不能和父母待着，很�

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